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判断扫描电镜能谱中的假峰是一项非常重要的技能，它直接影响到元素分析的准确性。假峰并非来自样品本身，而是由仪器、环境或物理效应产生。

以下是一份详细的指南，帮助识别和判断常见的假峰类型：

 常见的假峰类型及其特征

1. 和峰

成因：当探测器在短时间内同时接收两个X光子，它会错误地将这两个光子的能量相加，记录为一个更高能量的假峰。

识别特征：

峰位通常是某个强峰能量的整数倍或简单加和。例如，一个很强的Si Ka峰（1.74 keV）可能产生一个位于约3.48 keV的和峰。

强度规律：和峰的强度与对应强峰的平方成正比。如果强峰强度增加一倍，和峰强度会增加约四倍。

通常只在主峰非常强时才会出现。

2. 逃逸峰

成因：一个X光子进入探测器后，激发了探测器材料（通常是硅）的原子，产生一个Si Ka X光子。如果这个Si Ka光子逃逸出了探测器，那么原始光子的能量就会损失掉1.74 keV（Si Ka的能量）。

识别特征：

峰位总是在某个真实峰能量减去1.74 keV的位置。例如，一个强的Fe Ka峰（6.40 keV）会伴随一个出现在6.40 - 1.74 = 4.66 keV的逃逸峰。

它是硅探测器固有的特征。

3. 来自样品台、支架或镜室的峰

成因：电子束轰击到了非样品的金属部件，如铜样品台、铝支架、或镜筒内部的金属，产生了这些材料的特征X射线。

识别特征：

峰的元素（如Cu、Al、Fe、Ni、Cr、O）在您的样品成分中无法解释。

当移动样品到不同位置，或者甚至将电子束打在没有样品的空白区域时，这些峰依然存在。

它们通常是弥散性的背景峰。

4. 涂层材料的峰

成因：如果您对不导电样品进行了喷金、喷碳等处理，电子束会激发出涂层材料的特征X射线。

识别特征：

出现Au、Pd、Pt、C等元素峰，而这些元素并非样品本身所有。

这是系统性出现的，所有喷镀过的样品都会有。

5. 高阶衍射峰

成因：主要出现在波谱仪中。晶体在衍射一级谱线的同时，也可能衍射二级或三级谱线。

识别特征：

峰位出现在某个强峰能量的2倍或3倍位置附近。

通过切换不同的分析晶体，峰位会发生规律性变化，从而可以识别。