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提高扫描电镜（SEM）图像对比度，可以从 电子束条件、样品处理、探测方式和成像参数 四个方向入手：

1. 电子束条件优化

加速电压调整：较低电压时，二次电子信号占优势，表面形貌对比增强；较高电压则更容易看清内部结构。

束流控制：合适的束流强度能提升信号量，从而增强明暗差别，但过强会导致充电或损伤。

2. 样品处理

导电镀膜：对绝缘样品进行金、铂或碳镀膜，可减少充电并增强边缘清晰度。

表面清洁：去除油脂和污染物，避免背景信号干扰对比度。

选择性腐蚀或断面制备：在材料科学中，适当的制备能突出不同相的差异。

3. 探测器与信号选择

二次电子（SE）信号：适合观察表面形貌，边缘对比强烈。

背散射电子（BSE）信号：对原子序数差异敏感，能增强成分对比。

混合模式：同时采集 SE 和 BSE 信号，根据需要调整权重，获得高质量的对比度。

4. 成像与后处理参数

工作距离：较短的工作距离可提升分辨率，改善对比。

扫描速度：降低扫描速度或使用帧累积，能减少噪声，提高对比度。

亮度与对比度设置：在图像采集软件中实时调整，避免过曝或过暗。

后处理：适度的直方图均衡或伽玛调整，可进一步优化对比度，但应避免过度处理以免失真。