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非导电样品在扫描电镜（SEM）中直接成像时容易出现电荷积累（charging）问题，导致图像漂移、发亮斑点或模糊。为了获得清晰稳定的图像，通常需要以下几种方法：

1. 样品导电化处理

金属喷镀：用离子溅射仪在样品表面均匀镀上一层很薄的金、金钯合金、铂或铬，厚度一般为 5–20 nm。

碳蒸镀：在需要进行能谱（EDS）分析且避免金属干扰时，可选择碳镀层。

作用原理：在样品表面形成导电层，使电子束轰击产生的电荷迅速泄放。

2. 使用低真空（低真空 SEM 或 ESEM）

在样品腔内引入一定压力的气体（如水蒸气），使电子束打在样品表面产生的电荷通过气体离子化过程中和。

优点：无需导电涂层，可直接观察湿样品、生物样品、粉末等。

缺点：分辨率略低于高真空模式。

3. 低加速电压成像

将加速电压降至 1–5 kV，减少电子束在样品中的穿透深度，从而降低电荷积累速度。

常与表面灵敏的探测器（如 InLens 或 SE2）配合使用。

4. 在样品台与样品间增加导电连接

在样品与样品台之间涂少量导电胶（银胶、碳胶）或使用导电铜胶带，确保涂层或样品直接接地。

对于局部不导电的样品，可以局部涂导电胶连接到镀膜区域。

5. 光束扫描优化

使用快速扫描 + 多次累积的方法减少单次束流停留时间，降低充电效应。

避免长时间在同一区域静止曝光。