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泽攸科技压电驱动技术突破:双模式电机实现从毫米级到纳米级的无缝精密运动

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压电超声电机(USM)利用压电材料的逆压电效应,通过高频结构振动共振模式实现驱动......

泽攸科技电子束光刻机助力实现30nm超小间隙纳米十字天线

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泽攸科技ZEL304G电子束光刻机(EBL)是一款高性能、高精度的光刻设备,专为......

国内EBL邻近效应修正技术面临的挑战

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EBL凭借电子波长短,不受衍射限制等优势,对比光学光刻具有更高的理论极限分辨率,......

泽攸科技DMD无掩膜光刻机赋能仿视网膜双模光电探测器的制备

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随着机器视觉技术在无人机、智能车辆和移动机器人等领域的快速发展,实时成像系统对硬......

泽攸科技DMD无掩膜光刻机助力高性能二维材料器件的研发

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近年来,二维(2D)层状晶体及其异质结构由于其电学、光学和机械性能而受到了广泛关......

泽攸科技无掩膜光刻机在PtTe2/WS2/金字塔状Si异质结构制备中的应用

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在当今的光电探测器领域,二维(2D)材料因其独特的物理和化学性质而备受关注。...

泽攸科技无掩膜光刻机在MEMS压力传感器制造中的应用

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在当今的科技快速发展时代,微电子机械系统(MEMS)技术已成为推动现代传感器技术......

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