其他每一部工程作品都精雕细琢

当前位置: 主页 > 应用案例 > 其他

从瑞利判据到数字光场:光刻分辨率的极限与工程实践的权衡

从瑞利判据到数字光场:光刻分辨率的极限与工程实践的权衡

在实际应用中,泽攸科技的设备已被用于二维材料器件的电极制备、微流控芯片的快速成型......

衍射极限与超分辨率的物理直观:从光学到电子束的跨越

衍射极限与超分辨率的物理直观:从光学到电子束的跨越

在微纳加工领域,电子束光刻(EBL) 技术也利用了电子束的短波长优势。它使用聚焦......

湿粘颗粒堵孔难:翻转流筛技术实现高效分离

湿粘颗粒堵孔难:翻转流筛技术实现高效分离

在当前推动矿产资源清洁高效利用的国家政策背景下,振动筛分作为煤炭等关键能源资源加......

从物理模板到数字光场:无掩模光刻技术如何重构微纳加工的研发范式

从物理模板到数字光场:无掩模光刻技术如何重构微纳加工的研发范式

光刻无疑是定义器件几何形态的基石。对于那些深耕于电子显微镜及原位测量系统领域、拥......

泽攸科技压电驱动技术突破:双模式电机实现从毫米级到纳米级的无缝精密运动

泽攸科技压电驱动技术突破:双模式电机实现从毫米级到纳米级的无缝精密运动

压电超声电机(USM)利用压电材料的逆压电效应,通过高频结构振动共振模式实现驱动......

泽攸科技电子束光刻机助力实现30nm超小间隙纳米十字天线

泽攸科技电子束光刻机助力实现30nm超小间隙纳米十字天线

泽攸科技ZEL304G电子束光刻机(EBL)是一款高性能、高精度的光刻设备,专为......

国内EBL邻近效应修正技术面临的挑战

国内EBL邻近效应修正技术面临的挑战

EBL凭借电子波长短,不受衍射限制等优势,对比光学光刻具有更高的理论极限分辨率,......

泽攸科技DMD无掩膜光刻机赋能仿视网膜双模光电探测器的制备

泽攸科技DMD无掩膜光刻机赋能仿视网膜双模光电探测器的制备

随着机器视觉技术在无人机、智能车辆和移动机器人等领域的快速发展,实时成像系统对硬......

泽攸科技DMD无掩膜光刻机助力高性能二维材料器件的研发

泽攸科技DMD无掩膜光刻机助力高性能二维材料器件的研发

近年来,二维(2D)层状晶体及其异质结构由于其电学、光学和机械性能而受到了广泛关......