扫描电镜样品边缘清晰度衰减

扫描电镜样品边缘区域图像模糊、轮廓发虚，边界细节丢失，而样品平面区域成像正常，这种边缘清晰度衰减现象，会影响微纳结构轮廓观测与尺寸测量，在薄片、台阶、立体样品观测时尤为突出。

扫描电镜图像周期性横纹干扰

扫描电镜在成像采集过程中，画面出现规律重复的横向或者纵向条纹，掩盖样品真实微观形貌，降低图像分辨率，是观测中经常遇到的成像干扰问题。

在绝缘基底或者表面绝缘光刻胶样品曝光时，容易出现衬底充电效应，造成图形扭曲、线宽不均、图形边缘毛刺，是电子束光刻工艺中高频出现的工艺难题。

电子束直写加工依靠高压电子束在光刻胶表面逐点扫描完成纳米图形制备，束流稳定性直接决定图形定位精度，束流漂移是加工过程中十分常见的精度问题。

扫描电镜长期观测有机样品、含碳样品时，容易出现电子束诱导污染，在样品表面形成一层薄碳层，逐步降低图像分辨能力。

在微纳表征工作中，扫描电镜依靠高能电子束轰击样品表面，通过收集二次电子信号完成表面形貌成像。

掩膜光刻依靠空间光调制器调制光束，将数字化图形投影至光刻胶表面，光束光场分布直接决定曝光剂量均匀性，视场内剂量不均会造成同一批次样品、同一片基底不同位置线宽差异过大，是微纳加工中典型的工艺难题。

在微纳加工领域，无掩膜光刻依靠数字光学投影直接在光刻胶表面生成目标图形，省去传统物理掩模版，非常适合小批量、多品种的研发试样加工。