扫描电镜图像景深不足

扫描电镜观测具有高低落差的样品时，容易出现图像景深不足问题。

扫描电镜二次电子信号衰减

扫描电镜长时间连续采集图像时，会出现二次电子信号衰减现象。

无掩膜光刻机长时间连续曝光作业时，光源、运动平台持续发热，热量传导至基底，造成基底热变形，直接引发多层结构套刻偏差。

无掩膜光刻机采用 DMD 数字微镜阵列进行图形投影曝光，当照明光路出现偏差时，会出现曝光光斑均匀性不足的问题。

扫描电镜观测多材质复合样品、多层薄膜、粗糙基底时，常出现图像衬度不均匀的现象，画面呈现不规则明暗斑驳、局部忽亮忽暗，并非样品真实结构。

扫描电镜在高倍率观测立体结构、粗糙表面、多孔样品、台阶结构时，极易出现景深不足的问题，表现为画面局部清晰、前后区域模糊，凸起位置对焦正常，凹陷位置脱焦虚化，无法同时呈现样品整体微观细节，严重影响三维形貌观测与微尺寸测量精度。

无掩膜光刻机采用逐点扫描、像素拼接的直写成像方式，在制备细线条、尖角、圆弧结构时，极易出现图形边缘台阶状锯齿、毛刺粗糙问题，直接增大线边缘粗糙度，导致后续刻蚀、剥离工艺出现边缘缺陷，是微纳直写加工中普遍的工艺问题。

无掩膜光刻机依靠高精度光学聚焦系统，将数字图形直接投影至光刻胶表面，实现微纳结构直写加工，焦点稳定性是保证线宽精度与图形清晰度的核心。