扫描电镜图像边缘清晰度下降

扫描电镜观测大视场样品时，经常出现画面中心成像锐利，图像边缘模糊、细节丢失的现象，很多操作人员会误以为是样品问题，实际上大多来自物镜像差、聚焦补偿与扫描畸变等因素。

扫描电镜图像出现周期性横纹

扫描电镜成像依靠电子束逐行扫描样品表面，采集二次电子信号转化为灰度图像，在样品观测过程中，图像上出现规律的周期性横向或纵向横纹是十分常见的成像故障。

无掩膜光刻机的核心目标是将设计图形准确复刻至光刻胶层，实际加工中经常遇到同一基底上不同位置图形临界尺寸出现波动，同批次样品之间线宽一致性差，出现部分区域线条偏宽、部分区域线条偏窄的现象，直接压缩工艺窗口，造成成品良率不稳定。

无掩膜光刻机依靠数字空间光调制器件与高精度运动平台配合，通过分视场逐次曝光拼接的方式，一次性完成大面积微纳图形制备，无需传统物理掩模板，在微流控、MEMS 器件、光学微结构研发领域应用广泛。

扫描电镜在长时间观测样品过程中，极易出现样品表面碳污染，造成图像对比度异常，是材料观测、微纳结构表征中经常遇到的现象。

扫描电镜依靠聚焦电子束扫描样品表面，采集二次电子信号形成表面形貌图像，广泛应用于材料表征、失效分析、微纳结构观测等场景。

电子束光刻机加工绝缘衬底或者表面绝缘层样品时，极易产生衬底充电效应，造成图形变形、线条偏移、边缘模糊，是微纳工艺中高频遇到的工艺难题。

电子束光刻机依靠稳定的电子束流完成纳米结构的直写曝光，在微纳加工、光子晶体、微流控模具等精密样品制备领域广泛应用。