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电子束光刻机依靠稳定的电子束流输送定量能量至光刻胶内部，束流的瞬时变化会直接改变局部接收的曝光能量，进而对线宽造成扰动。电子从阴极发射时本身存在统计性的散粒噪声，加上电子枪供电电源的小幅波动、透镜电极表面缓慢吸附污染物引发的电场畸变，都会造成束流在曝光过程中出现起伏。束流偏高的位置，光刻胶接收能量超出预设值，线条会出现拓宽、侧壁过度刻蚀的现象；束流偏低的区域则会出现曝光不足，导致线条收缩、图形残缺。这种扰动在小束流、高分辨率工况下会更加突出，因为此时束流本身基数较小，同等幅度的波动占比会显著提升。

在批量基板加工时，随着设备持续运行，阴极发射性能缓慢衰减，束流还会产生长时漂移，使得先后曝光的基板之间出现系统性的线宽偏差。即便提前完成剂量标定，如果没有持续监测束流状态，散粒噪声与慢漂移叠加，依然会拉高整体线宽偏差，影响微纳阵列、精细光栅等结构的一致性。