中文
English

电子束光刻机依靠聚焦电子束轰击光刻胶完成图形直写加工，电子到达基底后会发生散射，一部分电子向前穿透光刻胶，另一部分电子在基底内部发生背散射，向四周扩散，使图形周边光刻胶也受到额外曝光剂量，这就是邻近效应。该现象会造成线条尺寸偏移、拐角发生圆化、密集图形和孤立线条线宽不一致，是实际加工中高频遇到的工艺难题。不同品牌型号设备电子光学系统、加速电压档位、束流条件存在区别，同等样品条件下散射影响程度各不相同，校正参数不能直接照搬套用。

加速电压直接影响电子散射范围，高压条件下电子穿透更深，背散射作用范围更大；低压模式散射半径缩小，但束斑质量会受到一定影响。开展精细图形加工时，需要结合基底材质、光刻胶厚度，合理选定加速电压。对于硅基底、石英基底，同样曝光参数下产生的散射效果存在明显差异，基底越厚，背散射带来的额外曝光越明显。

邻近效应校正主要分为剂量调制、图形几何修正两类手段。剂量校正会对孤立线条、密集阵列、拐角区域分配不同曝光剂量，补偿散射带来的多余能量；图形修正是提前对设计图形做预变形，抵消曝光之后的图形畸变。不同品牌配套软件内置校正算法不一样，部分机型支持全自动剂量计算，部分机型需要手动分区设置曝光剂量。

实际加工调试过程，优先采用标准测试版图做线宽标定，实测不同图形的真实线宽，以此迭代校正参数，不能直接套用理论计算数值。光刻胶厚度同样不可忽视，胶层过厚会放大散射带来的尺寸偏差。同时束流大小也会对结果造成影响，大束流加工效率更高，但位置采样点数降低，细小图形的尺寸控制难度上升。完成校正之后，使用相同基底、相同光刻胶开展验证曝光，测量关键尺寸，确认校正效果，再开展正式工件加工。