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电子束光刻机的扫描方式取决于设备架构和控制系统设计。常见扫描方式主要包括以下几类。

首先，矢量扫描。

电子束只在需要曝光的图形区域移动，不扫描空白区域，适合线条、纳米结构等稀疏图形。优点是效率高、剂量控制精确，是科研型电子束光刻中常见方式。

第二，栅格扫描。

类似扫描电镜成像方式，电子束按行逐点扫描整个曝光区域，通过控制每个像素的开关或剂量实现图形写入。适合灰度曝光或复杂面阵图形，但效率相对较低。

第三，步进场扫描。

将大面积图形划分为多个小写入场（field），在一个场内完成扫描后，样品台移动到下一个位置继续写入。这种方式解决了偏转线圈扫描范围有限的问题，关键指标是场拼接精度。

第四，连续扫描与分段扫描。

部分系统支持连续路径扫描（适合长线结构），也可采用分段块状写入以提高大面积填充效率。

第五，多束扫描。

新一代系统采用多电子束并行写入，大幅提高写入速度，主要面向掩膜版或高产能需求场景。

第六，灰度剂量调制扫描。

通过改变束流停留时间或重复曝光次数，实现不同剂量分布，用于三维纳米结构加工。