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在扫描电镜（SEM）里，成像和分析依赖不同类型的电子信号，常见信号主要有以下几种：

1. 二次电子

来源：样品表面受到入射电子轰击后，释放能量较低的二次电子（一般 <50 eV）。

特点：对表面敏感，空间分辨率高。

用途：主要用于观察样品的表面形貌，如颗粒、裂纹、台阶等。

2. 背散射电子

来源：入射电子在样品内部发生弹性散射后反弹出来的电子。

特点：能量高，对材料原子序数敏感。

用途：

材料对比：原子序数高的区域亮度高。

合金或多相材料中不同成分对比明显。

3. X 射线

来源：入射电子击出内壳层电子，外层电子填补空位时发射特征 X 射线。

用途：元素分析（EDS/EDX），可以判断样品的元素种类和分布。

4. 二次电子增益信号（In-Lens SE 或 SE2）

这是一些SEM 配备的检测器，用来提高表面信号的分辨率和对比度。

5. 电导信号 / 电荷中和信号

在低真空模式（ESEM）下，用来检测样品表面因电子束充电或气体离子化产生的电流。