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无掩膜光刻机凭借图形切换灵活、基底兼容性广的特点，大量应用于 MEMS 传感器件、微光学元件以及微流控器件的加工制造当中，适配多品种、中小批量的生产加工模式。

MEMS 传感器件内部包含大量微型沟槽、空腔、可动微型结构，产品规格迭代频繁，不同型号传感器的图形结构差异较大。借助无掩膜直写曝光能力，可以完成压力传感、惯性器件内部微结构的光刻成型，不用反复制作掩模版就可以快速输出不同版本的样品，完成结构性能对比，有效缩短产品迭代周期，也能够承接定制规格器件的批量加工任务。

微光学器件领域，设备可以加工光栅、光波导、菲涅尔透镜等精密微结构，部分机型支持灰度曝光功能，能够直接生成连续渐变的三维形貌结构，省去多步套刻的繁琐工序，适配玻璃、石英等透光基底的加工需求，服务光通信、激光雷达相关光学元件的生产制造。

在微流控器件加工场景，设备用来制备各类微通道、反应腔阵列图形，通道尺寸可以灵活调整，满足不同流体控制结构的加工需要，可在各类高分子薄片以及硬质基底上完成曝光，支撑各类微流体器件的成型制作。整套加工流程依靠数字版图驱动，产品改型只需要更新设计文件，非常适合品类繁多的定制化微纳器件生产。