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电子束光刻机依靠聚焦电子束直接在抗蚀剂表面完成图形写入，在微纳结构制备过程中，经常出现图形边缘锯齿、轮廓粗糙、局部线条毛刺等问题，直接影响成品尺寸精度，需要从设备状态、参数设置、样品条件多维度开展排查与优化。

电子光学系统状态是影响边缘质量的首要因素。电子枪灯丝老化、发射稳定性下降，会造成束流发生小幅波动，束斑形态出现畸变，写入轨迹就会产生不规则毛刺。透镜系统存在残余像散、聚焦没有校准到适合状态，也会让束斑无法收敛到理想尺寸，扫描轨迹边缘变得模糊粗糙。不同品牌型号设备的电子光学组件性能存在差异，束斑控制上限、像散补偿能力各不相同，故障表现的明显程度也会有所区别。日常作业前，需要完成束流稳定性检查，执行消像散与聚焦校准，确认束斑形态正常之后，再开展正式曝光作业。

曝光工艺参数设置不合理同样会带来边缘缺陷。扫描步长设置过大，相邻扫描点之间间距超出束斑覆盖范围，图形轮廓就会呈现明显锯齿；扫描速度过快，系统采样响应来不及跟随偏转信号，会造成轨迹抖动。束流与曝光剂量匹配失衡，高束流工况下电子之间库仑排斥效应加剧，束斑发生展宽，同样会破坏图形边缘质量中国物理学...。实际调试时，可适度缩小扫描步长，平衡扫描速度与束流等级，在加工效率和图形质量之间找到适配工况，同时开启设备自带的图形平滑处理功能，改善轮廓表现。

样品与环境因素也不可忽视。基底表面存在颗粒、污渍，抗蚀剂涂布厚度不均匀，都会造成局部电子散射异常，引发边缘畸变。外界微振动、电磁干扰会干扰偏转系统，让电子束扫描轨迹发生偏移。作业环境应当做好减振、电磁屏蔽，样品预处理阶段保证基底洁净，抗蚀剂旋涂、前烘工艺严格执行规范，减少样品本身带来的缺陷干扰。完成参数调整后，优先做小样试曝光，观测图形边缘形貌，迭代优化各项工艺条件，再进行大批量加工。