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等离子体增强化学气相沉积系统CVD

多功能电感耦合等离子体增强化学气相沉积系统(CVD)是用来制备高纯、高性能固体薄膜的主要技术,主要借助微波或射频的方法将目标气体进行电离,促进化学反应在较低的温度下进行,从而在基片上沉积出所期望的薄膜。

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    多功能电感耦合等离子体增强化学气相沉积系统(CVD)是用来制备高纯、高性能固体薄膜的主要技术,主要借助微波或射频的方法将目标气体进行电离,促进化学反应在较低的温度下进行,从而在基片上沉积出所期望的薄膜。


    目前项目团队自主研发的CVD设备可在多种衬底上(如金属、氧化物、半导体表面)直接生长以石墨烯为代表的各类新型二维材料,用于新材料、新器件的研发。工艺简单廉价,且具有传统半导体生长工艺的兼容性。

    等离子体增强化学气相沉积系统CVD等离子体增强化学气相沉积系统技术参数

应用案例

    CVD应用——Graphene在任意衬底上的无催化生长

    CVD应用——外延Graphene/BN异质结与摩尔超晶格

    CVD应用——Graphene的各向异性刻蚀技术发展

    CVD应用——Graphene的各向异性刻蚀技术发展2

    CVD应用——MoS2的原位氧取代掺杂和相变调控

    CVD应用——MoS2的原位氧取代掺杂和相变调控2

    CVD应用——外延构筑各种MoS2范德华异质结

    CVD应用——二/四英寸连续单层MoS2 的取向外延生长

    CVD应用——二/四英寸连续单层MoS2 的取向外延生长2

      以上就是安徽泽攸科技有限公司为您介绍的等离子体增强化学气相沉积系统CVD产品,如果想要了解更多产品信息请咨询15756003283(微信同号)

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