泽攸科技原位TEM测量系统推动忆阻器机理可视化

随着传统冯·诺依曼结构逐渐暴露出处理速度和能效的瓶颈，仿生神经形态计算成为重要的替代路径。

泽攸科技电子束光刻机助力实现30nm超小间隙纳米十字天线

泽攸科技ZEL304G电子束光刻机（EBL）是一款高性能、高精度的光刻设备，专为半导体晶圆的高速、高分辨率光刻需求设计。该系统采用先进的场发射电子枪，结合一体化的高速图形发生系统，确保光刻质量优异。

台阶仪是一类基于接触式探针扫描技术，实现样品表面微观形貌二维和三维特征量化分析的测量设备。

泽攸科技ZEM系列台式扫描电镜是一款集成度高、便携性强且经济实用的科研设备。它具备快速抽真空、高成像速度、多样的信号探测器选择，适用于形貌观测和成分分析，还能适配多种原位实验需求。

EBL凭借电子波长短，不受衍射限制等优势，对比光学光刻具有更高的理论极限分辨率，常被用于掩模版制作和小批量器件研发制作等领域。

n型氧化物薄膜晶体管（TFTs）凭借优异的迁移率、稳定性以及低温操作、经济性和成熟技术等优势，在电子产业化中得到广泛应用。

氮掺杂石墨烯（N-doped graphene）作为一种无金属催化剂或金属纳米颗粒载体，在电催化、光催化及环境净化等领域展现出巨大潜力。

铁电材料在致动器、换能器和多层陶瓷电容器等领域具有广泛应用，其性能调控对功能实现至关重要。