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无掩膜光刻机读取的版图文件多为矢量格式，设备内部需完成矢量向光栅点阵的转换，才能驱动 DMD 生成曝光图像，转换过程参数设置不合理，会造成微纳图形畸变，降低微细结构加工精度。

现象：设计文件中规则的微小矩形、窄线条阵列，经无掩膜光刻机曝光显影之后出现边角圆滑、线条宽窄随机变化，部分微细结构发生扭曲变形，图形偏差只出现在特征尺寸接近系统分辨率极限的微结构，大尺寸图形成像正常，调整焦点与曝光剂量无法消除畸变。

成因：无掩膜光刻机需要将矢量格式的版图文件转换为光栅点阵数据用于 DMD 成像，转换时的采样网格、抗锯齿算法参数设置不当，微细几何结构在像素采样过程丢失细节信息。不同设备配套的版图处理软件采样算法、插值模式存在区别，相同矢量版图在不同型号无掩膜光刻机上转换后的光栅图形精度差异明显。如果矢量图形存在重叠线条、未闭合轮廓等隐藏绘图缺陷，会进一步加剧采样失真，造成局部图形畸变。

改善方案：针对无掩膜光刻机的版图预处理阶段，对微细结构进行矢量检查，消除重叠线段、开放轮廓等绘图错误；调整光栅转换采样分辨率，设置高于目标特征 2 倍以上的采样网格；关闭不必要的自动抗锯齿平滑功能，避免微小棱角被算法钝化；提前进行小视场试曝光，比对设计图形与无掩膜光刻机实际成像结果，微调插值算法参数，完成采样校准后再进行整片样品曝光。