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在扫描电子显微镜（SEM）成像过程中，样品表面的充电效应可能会影响图像质量。充电效应主要是由于电子束与样品表面相互作用，导致电荷的累积。以下是一些方法，可帮助减轻或避免样品表面的充电效应：

导电涂层： 在进行扫描电镜成像前，可以在样品表面涂覆一层导电性较好的薄层，如金属或碳。这有助于提高电子的导电性，减少表面充电效应。

样品预处理： 在样品进行扫描电镜成像前，进行一些样品的预处理步骤，例如金属涂层、碳涂层或导电涂层，以减轻充电效应。

低电压成像： 降低扫描电镜的电子束加速电压，可以减小电子束与样品相互作用的强度，减轻充电效应。但需要注意，较低的电压可能降低图像分辨率。

工作距离调整： 调整扫描电镜的工作距离，即样品到电子透镜的距离，可以影响电子束的能量分布。通过适当的工作距离调整，可以减轻充电效应。

电荷补偿系统： 一些扫描电镜设备配备了电荷补偿系统，可以通过引入相反方向的电子流或离子束来抵消样品表面的电荷，从而减轻充电效应。

瞬时图像： 通过在较短时间内获取图像，可以减小电子束对样品的影响，从而减轻充电效应。

避免累积电荷： 尽可能减小电子束对样品的曝光时间，以避免过长的曝光时间导致电荷的累积。

ZEM20台式扫描电镜

以上就是泽攸科技小编分享的扫描电镜成像如何避免样品表面的充电效应。更多扫描电镜产品及价格请咨询15756003283(微信同号)。