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扫描电镜二次电子成像通常具有较浅的深度焦点，这意味着它对样品表面上的微小结构和拓扑特征具有较好的分辨率，但不适用于深度信息的获取。这个深度焦点是由于以下几个原因：

次级电子的产生机制： 在SEM中，二次电子主要是由高能电子束与样品表面相互作用产生的。这些次级电子是从样品表面相对较浅的区域产生的，通常只有几纳米到数十纳米的深度。因此，SEM的深度焦点主要位于样品表面附近。

电子束的聚焦： SEM中使用的电子枪和透镜系统是为了将电子束聚焦到样品表面附近，以获得高分辨率的表面成像。这意味着电子束的焦点是在样品表面，而不是在样品内部。

样品导电性： SEM对于导电性样品的成像效果更好，因为导电性样品可以更有效地导出次级电子。非导电性样品可能需要额外的处理，如金属涂层，以获得清晰的成像。

虽然SEM的深度焦点通常较浅，但可以通过调整电子束的能量、样品的倾斜角度或使用其他成像模式（例如背散射电子成像）来增加深度焦点。

ZEM18台式扫描电镜

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